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Fabrication de nanostructures en grandes quantites par nanopantographie

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Une equipe de scientifiques de l’universite de Houston (TX) a developpe une
technique permettant de graver en grande quantite des structures de
dimensions nanometriques et de formes simples a l’aide de faisceaux d’ions
focalises.

Le systeme est constitue d’un reseau de microlentilles formees par des trous
circulaires realises dans une couche de metal/dielectrique deposee sur un
substrat de silicium. Lorsque qu’une tension positive est appliquee a ces
lentilles et qu’elles sont exposees a un faisceau d’ions collimate, on
genere une multitude de faisceaux d’ions focalises d’un diametre minimal de
1 nanometre soit une taille 100 fois plus faible que le diametre d’une
lentille. En inclinant le substrat avec differents angles, le plan focal se
deplace lateralement sur le substrat et les chercheurs peuvent generer ainsi
des figures geometriques elementaires.

Ils esperent a l’avenir rendre independants les lentilles et le substrat
afin de rendre le systeme viable pour la fabrication de nanostructures plus
complexes sur de plus larges surfaces.

Sources : - http://redirectix.bulletins-electroniques.com/zsIcV

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